Face indexed absorption correction, x-ray에서 크리스탈의 면면을 찍는 이유

우리가 위와 같이 예쁜 크리스탈을 얻어서 구조분석에 쓰려고 한다고 치자. 그러면 x-ray가 이 크리스탈을 쏘면서 반사되는 빛을 디텍터로 감지해서 그 패턴을 분석해야 하는데, 이 과정에서 보정이 들어가야 한다 (absorption correction). 모든 x-ray 광자가 결정과 부딪혀서 반사된다면 좋겠지만, 그대로 투과해서 디텍터로 가는 것도 있을 것이기 때문이다. 크리스탈이 구형이라면 어디에서 빛이 와서 반사를 하던 똑같기 때문에 필요가 없지만 우리가 구형의 크리스탈을 볼 일은 0에 가깝기 때문에, 여러 방향에서 오는 빛들을 다 구분해서 보정해줘야 한다.

그래서 위 사진에 나온 수많은 선 처럼 크리스탈의 면면을 최대한 가깝게 모방해서 이에 맞춰서 보정해주세요 하는 방법이 face-indexed absorption correction이라고 한다. 여기서 크리스탈의 사이즈와 모양이 측정되고, 크리스탈의 중심에서부터 크리스탈의 배향 등 여러 요소들이 계산되어 보정된다. 물론 이 과정에서 크리스탈의 모든 면이 보정되지 않을 수도 있지만 크리스탈이 큐브형이라던가 구형에 가깝다면 그래도 에러가 크지않다. 하지만 가령 바늘이나 접시처럼 한쪽이 다른 쪽에 비해 차이가 큰 경우 제대로 이 face indexing을 해주지 않으면 에러가 커질 수 있다. 

다행히 최근 기술의 발달로 디테일하게 face indexing을 하지 않아도 대략의 (혹은 퀄리티에 따라서 이미 거의 완벽한) 구조를 알 수 있기에 크게 문제되는 사항은 아니다.